Wafer 晶圆高温无线测温系统
Wafer 晶圆无线测温系统旨在优化和监控先进的薄膜工艺（FEOL 和 BEOL ALD、CVD 和 PVD）、RTP 快速退火以及其他高温工艺。Wafer 晶圆无线测温系统可测量工艺设备的热均匀性，并提供在实际生产工 艺条件下所采集的时间和空间温度数据。Wafer 晶圆无线测温系统可以提供原位、实时的温度数据，帮助 IC 制造商准确调试制程设备，从而提高产量和良品率。
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